01 Mejora de la precisión del grabado
El láser de femtosegundo de alto rendimiento puede controlar la precisión del grabado en el orden de magnitud nm, que es 1-2 órdenes de magnitud mayor que la del picosegundo; la precisión del ancho del borde se controla en el orden de magnitud um o sub-um;
02 Daños materiales reducidos
La potencia máxima del láser de femtosegundo es alta y la absorción es fuerte, y su zona de grabado afectada por el calor y su profundidad de fusión son menores en comparación con las del láser de picosegundo, por lo que tiene menos influencia en el grabado de la capa subyacente y puede significativamente Reducir los daños materiales o incluso no producir daños.
03 Evitar daños al material subyacente
El uso de grabado láser UV de picosegundos/femtosegundos de capas de película transparente puede evitar daños al material subyacente;
04 Cumplimiento eficiente de los requisitos del proceso
Mediante la cooperación de diferentes láseres, podemos cumplir de manera eficiente los requisitos del proceso de las baterías BC para la producción de patrones complejos de varias capas de película.
Para el proceso de la batería, el uso de láseres de femtosegundo puede reducir el daño material y simplificar el proceso de limpieza, logrando así una reducción de costos y eficiencia. Los láseres de femtosegundos de alto rendimiento pueden garantizar mejor la producción en masa eficiente de células XBC manteniendo al mismo tiempo una velocidad de procesamiento de no menos de picosegundos, lo que da como resultado una eficiencia de hasta el 26-27 %.
